이상준, 김지환, “홀로그래픽 스페클 패턴 기반 입자상 물질들의 농도 예측 모델 및 이의 생성 방법”,
대한민국 특허 출원번호 10-2021-0141904, 2021, 10.22,
대한민국 특허 등록번호 10-24***, 2023.**